測(cè)厚儀尼克斯上海篤摯儀器供給
測(cè)厚儀尼克斯上海篤摯儀器技術(shù)參數(shù):
型號(hào) | QNix 4200 |
探頭及材質(zhì) | 外置,固定探頭;硬質(zhì)合金 |
測(cè)量范圍 鐵/鋼 | 0~3500 µm |
測(cè)量范圍 有色金屬 | 0~3000 µm |
精度 | ± 2 µm 或讀數(shù)的 2 % |
分辨率 | 0~1000 µm:1 µm ;1000~2500 µm:2 µm;2500~3500 µm:5 µm |
校準(zhǔn) | 工廠校準(zhǔn)、零校準(zhǔn) |
統(tǒng)計(jì) | 平均值,標(biāo)準(zhǔn)差,zui小值,zui大值 |
顯示 | 4位數(shù),字母數(shù)字,10 mm 高 |
工作溫度 | 0 °C 至 + 60 °C |
表面溫度 | –15 °C 至 + 60 °C |
尺寸 | 110 mm x 50 mm x 25 mm |
探針尺寸 | Ø 24 mm x 45 mm |
重量 | 140 g, 包括電池 |
防護(hù)級(jí)別 | IP 52 (防塵、防水滴) |
標(biāo)準(zhǔn) | DIN, ISO, ASTM, BS |
推薦用途 | 難以接近的位置 |
凸面的zui小曲率半徑 | 5 mm |
凹面的zui小曲率半徑 | 50 mm |
zui低作業(yè)高度 | 50 mm |
zui小基材厚度 – F | 0.5 mm |
zui小基材厚度 – N | 50 µm |
測(cè)厚儀尼克斯上海篤摯儀器供給:
1、QNix4200涂層測(cè)厚儀采用磁性和渦流兩種測(cè)厚方法,即可測(cè)量磁性金屬集體上非磁性覆蓋層的厚度又可測(cè)量非磁性金屬基體上非導(dǎo)電覆蓋層的厚度。
2、涂層測(cè)厚儀可采用單點(diǎn)校準(zhǔn)和?兩點(diǎn)校準(zhǔn)兩種方法對(duì)QNix 4200涂層測(cè)厚儀進(jìn)行校準(zhǔn),并可用基本校準(zhǔn)法對(duì)測(cè)量頭的系統(tǒng)誤差進(jìn)行修正,保證儀器在測(cè)量過(guò)程中QNix 4200涂層測(cè)厚儀的準(zhǔn)確性;
3、能快速自動(dòng)識(shí)別鐵基體與非鐵基體;
4、QNix 4200涂層測(cè)厚儀具有電源欠壓指示功能;
5、操作過(guò)程有蜂鳴聲提示;
6、設(shè)有兩種關(guān)機(jī)方式:手動(dòng)關(guān)機(jī)方式和自動(dòng)關(guān)機(jī)方式;
7、有負(fù)數(shù)顯示功能,保證QNix 4200涂層測(cè)厚儀在零位點(diǎn)的校準(zhǔn)準(zhǔn)確性;
8、有顯示平均值、zui大值、zui小值功能。
使用方法:
1)開(kāi)機(jī)
按“ON”鍵后QNix 4200涂層測(cè)厚儀發(fā)出一聲?shū)Q響,會(huì)自動(dòng)恢復(fù)上一次關(guān)機(jī)前的參數(shù)設(shè)置后,顯示0.0μm,表示QNix 4200涂層測(cè)厚儀進(jìn)入待測(cè)狀態(tài)。此刻可以測(cè)量待測(cè)工件了。如果一段時(shí)間不使用QNix 4200涂層測(cè)厚儀將自動(dòng)關(guān)機(jī)。
2)關(guān)機(jī)
在無(wú)任何操作的情況下,大約3分鐘后QNix 4200涂層測(cè)厚儀會(huì)自動(dòng)關(guān)機(jī)。按一下“ON”鍵,立即關(guān)機(jī)。
3)單位制式轉(zhuǎn)換(公制與英制轉(zhuǎn)換)
在待測(cè)狀態(tài)下,按μm/mil可轉(zhuǎn)換QNix 4200涂層測(cè)厚儀測(cè)量單位。
4)測(cè)量
a)準(zhǔn)備好待測(cè)試工件
b)確定是否需要對(duì)QNix 4200涂層測(cè)厚儀進(jìn)行校準(zhǔn),如果需要,則選擇適當(dāng)?shù)男?zhǔn)方法進(jìn)行
c)迅速將測(cè)量頭與測(cè)試面垂直地接觸并輕壓測(cè)量頭定位套,一聲?shū)Q響,屏幕顯示測(cè)量值,QNix 4200涂層測(cè)厚儀會(huì)自動(dòng)感應(yīng)被測(cè)基體:感應(yīng)到是磁性基體時(shí)WH-81涂層測(cè)厚儀顯示Fe;感應(yīng)到是非磁性金屬時(shí),QNix 4200涂層測(cè)厚儀顯示NFe。(鐵鋁雙基型可自動(dòng)識(shí)別,單鐵基型只可測(cè)量磁性底材)
注意:測(cè)量時(shí)要保持QNix 4200涂層測(cè)厚儀處于垂直狀態(tài)。當(dāng)提起測(cè)量頭則可進(jìn)行下一次涂層測(cè)量;
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