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GalvanoTest 2000一般用法和測量原理：
根據DIN 50955 / ISO 2177的電量分析法或電化學(xué)去鍍技術(shù)，適用于測量幾乎所有基材上的電鍍涂層，即：鋼，有色金屬以及絕緣材料（例如金屬）上的電鍍層鋼上的鎳，鋼上的鋅，銅上的錫，銅上的銀和環(huán)氧樹(shù)脂上的銅。該方法也適用于測量多層系統的各個(gè)涂層，例如鉻對鎳，銅對鋼。

測量原理基于法拉第定律。使用與電鍍方法相反的方法，從樣品中化學(xué)去除涂層。為此，將不銹鋼測量池放置在要測量的樣品上。電池充滿(mǎn)電解質(zhì)溶液，該電解質(zhì)溶液根據涂層/基體組合選擇。放置在樣品池和樣品之間的橡膠墊圈確定了測量區域，例如4平方毫米測量裝置電連接到電子處理單元。當接通時(shí)，恒定電流流過(guò)電解質(zhì)以電化學(xué)方式電化學(xué)去除金屬涂層。在整個(gè)電鍍過(guò)程中，可以在測量單元和要測量的對象之間觀(guān)察到定義的電壓。一旦金屬涂層被*去除，就會(huì )出現特征電壓躍變。該電壓跳變被測量?jì)x記錄下來(lái)，以中斷電壓供應并停止計時(shí)器。厚度立即以密耳或微米顯示。