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COULOSCOPE MMS 測試儀器是一個(gè)功能非常強大而操作比較簡(jiǎn)便的儀器。使用時(shí)的一個(gè)原則是多看顯示屏上的提示，根據它的提示一步一步地去做，這往往事半功倍；其二，要注意軟鍵功能的變化，在不同的程序中有不同的功能；其三，許多功能都是由 MENU 菜單來(lái)開(kāi)啟，隨后皆有提示，可按部就班的進(jìn)行。 

一、測量界面說(shuō)明 

屏幕右上角顯示當前時(shí)間，下面依次顯示當前應用程式的信息：例如薄可測厚度 thmin＝0.30um，電解速度 Deplating rate 2.00um/min，修正系數 Corr.fact：1.00。 中間左半部分是當前應用程式的形象圖解說(shuō)明，右半部分顯示測量數值。 下面一行顯示當前應用程式的編號和名稱(chēng)，例如 Appl20：APPL.NO.20，數據總數 N_tot＝15。  右邊為相應軟鍵的功能，按 BLOCK RES.可以顯示單個(gè)數據組的統計值；按 EVALUATE 可以查看單個(gè)或多個(gè)數據組的統計值以及 SPC 圖、Σ圖；用上下箭頭可以翻看測量數據。 

二、基本操作 

1．設立應用程式例如 0.5umCr/4umNi/10umCu/Fe： 
MENU→在應用程式欄中選擇新建應用程式（0）→挑一個(gè)空的序號，例如 5 即輸入數字 5→ENTER
→用上下箭頭選擇鍍層數 Select number of coatings，例如 3 coatings→確認→選擇測量頂層鍍層 Cr/Ni 的應用程式和電解速度（電解速度根據實(shí)際鍍層厚度選擇，一般電解時(shí)間控制在 1分鐘左右），按 PAGE 軟鍵可以翻頁(yè)，依據本例選 16 即輸入數字 16→確認→選擇墊圈 gasket 的尺寸，例如ф1.5mm（yellow）→確認→選擇測量中間層 Ni/Cu 的應用程式 43，輸入數字 43→確認→選擇墊圈 gasket 的尺寸，注意：同一個(gè)應用程式，只能用一種墊圈尺寸，所以還選ф1.5mm（yellow）→確認→選擇測量里層鍍層 Cu/Fe 的應用程式 33，輸入數字 33→確認→選擇墊圈gasket 的尺寸ф1.5mm（yellow）→確認，這時(shí)可以看到剛才建立應用程式的信息，請核對是否正確，按 ENTER 鍵可以跳到下一個(gè)項目，按數字 2，8 鍵可以切換當前選項→確認→這時(shí)可以更改應用程式的名稱(chēng)，按數字 2，4，6，8 鍵可以選擇所需字符，按 ENTER CHAR 軟鍵可以輸入選定字符→CONFIRM，回到測量狀態(tài)，應用程式已建立。

2．校準：CAL 
CAL→修改系數（軟鍵）→將標準片的標稱(chēng)值輸入小框內→確認→按 START 鍵開(kāi)始測量→確認→校準完成，返回測量狀態(tài)。先把修正系數 Corr.factor 重置為 1.00。
3．應用程式：SELECT APPL 
因為該儀器可測量各種鍍層體系，故針對要測量的鍍層，可使用 APPL.No.鍵來(lái)挑選當前要使用的應用程式。 SELECT APPL→選某個(gè)要用的應用程式的序號→ENTER→進(jìn)入該應用程式的測量界面。 
4. 修改應用程式：MODIFY APPL 
測量時(shí)，如果儀器停不下來(lái)（漏液肯定停不了），可以修改突變電壓。 只能在修改當前應用測試。 MEUN→在應用程式欄中選擇修改應用程式（1）→NEW ΔU 軟鍵→CHANGE 軟鍵→輸入密碼159，并用 ENTER 鍵確認→用數字鍵輸入新的突變電壓值ΔU→用 ENTER 鍵確認，移動(dòng)光標位置，修改下一層的突變電壓值→修改完成后用 CONFIRM 軟鍵確認，返回測量界面。

三．通過(guò) MENU 菜單鍵進(jìn)行內部設置的一些操作： 

應用程式欄 
0. 新建應用程式。 
1．修改應用程式： MENU→1→ENTER 
2．刪除應用程式內的數據： MENU→2→ENTER 警告：所有的數據將被刪除→DEL 軟鍵執行刪除，ESCAPE 取消操作→返回測量界面。 
3.復制應用程式 ：MENU→3→出現已有的各個(gè) APPL→選 APPL 的序號，例如“8” →8→ENTER→出現 New Application  Number→輸入一個(gè)空位，例如：20 →ENTER→在 20 的位置上將出現一個(gè)程序 8 的 COPY。 
4．刪除應用程式： 
MENU→4→ENTER→選一個(gè)要刪除的程式（例如程式 6，注意，無(wú)法刪除當前應用程式）→6→DEL
（軟鍵）→警告→DEL（該程式 6 已被刪除）→回選擇界面，可進(jìn)行另一次的刪除。如要返回測
量狀態(tài)→MEAS OK。