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產(chǎn)品名稱(chēng):
多功能電解質(zhì)測厚儀COULOSCOPE CMS2
發(fā)布時(shí)間:
2024-09-02
產(chǎn)品品牌:
Helmut Fischer/德國菲希爾
產(chǎn)品特點(diǎn):
多功能電解質(zhì)測厚儀COULOSCOPE CMS2
作為測量鍍層厚度*簡(jiǎn)單的方法之-一,庫侖法可以用于各種鍍層組合。尤其對于多鍍層結構,當 允許破壞性測量時(shí),它提供了一個(gè)比X射線(xiàn)更經(jīng)濟的替代方法。強大并且用戶(hù)友好的COULOSCOPE CMS2適用于電鍍行業(yè)的生產(chǎn)監控和成品的質(zhì)量檢驗
  多功能電解質(zhì)測厚儀COULOSCOPE CMS2的詳細資料:

CMS2特征

?    大尺寸高分辨率的彩色顯示器
?    簡(jiǎn)單的操作和圖示的用戶(hù)指導
?    使用V18支架實(shí)現半自動(dòng)化測量
?    電解速度和測量面積的簡(jiǎn)單選擇
?    電壓曲線(xiàn)圖形顯示
?    圖形和統計分析
?    多語(yǔ)言和計量單位可供選擇

CMS2 STEP殊功能
?    同時(shí)測量鍍層厚度和電位差
?    銀參比電極的簡(jiǎn)單準備
?    可調節的電解電流

 

 

 

COULOSCOPE CMS2介紹

 

作為測量鍍層厚度*簡(jiǎn)單的方法之-一,庫侖法可以用于各種鍍層組合。尤其對于多鍍層結構,當 允許破壞性測量時(shí),它提供了一個(gè)比X射線(xiàn)更經(jīng)濟的替代方法。
        強大并且用戶(hù)友好的COULOSCOPE CMS2適用于電鍍行業(yè)的生產(chǎn)監控和成品的質(zhì)量檢驗。很多常見(jiàn)的單、雙鍍層例如鐵鍍鋅或者銅鍍鎳鍍錫都可以用CMS2簡(jiǎn)單快速地測量。這個(gè)方法為任何金屬鍍層提供了精確的測量。在厚度范圍0.05.50um內,很多,材料不需要預設定:基材組成和幾何形狀對于測量都是無(wú)關(guān)緊要的。*常見(jiàn)的應用之- -就是測量線(xiàn)路板上剩余的純錫,以確??珊感?。多鍍層例如Cr/ Ni/Cu在鐵或者塑料(ABS)基材上,經(jīng)常被用于高品質(zhì)的浴室用品,也可以用這個(gè)方法進(jìn)行測量。

COULOSCOPE CMS2的應用實(shí)例:電鍍緊固件,測量PCB板上的剩余純錫厚度,鍍鉻件以及浴室用品

 

 

原理:

這個(gè)系列儀器根據 DIN EN ISO 2177 標準的庫侖法。金屬或非金屬基材上的金屬鍍層,通過(guò)在控制電流條件下電解腐蝕--------實(shí)際上就是電鍍的反過(guò)程。所載入的電流與要剝離的鍍層厚度是成正比的,假如電流和剝離面積保持不變,鍍層厚度與電解時(shí)間就是成正比的關(guān)系。

 

下面的公式適用于通過(guò)庫侖法電解腐蝕確定鍍層厚度:

測量槽------可比作微型電解缸------被用來(lái)剝離鍍層。 測量面積由裝在測量槽上的墊圈尺寸來(lái)決定。對不同的金屬采用不同配方的電解液。 通過(guò)載入電流開(kāi)始電解過(guò)程。電解過(guò)程由 COULSCOPE 儀器的電子部分控制, 用一個(gè)泵攪拌電解液來(lái)使電解區域電解液平穩腐蝕,保證電解液利用。 根據測量區域的大小,各種直徑的墊圈可供選擇。

         

 

 

 

COULOSCOPE CMS2 STEP介紹

STEP Test 是在允許腐蝕的情況下用來(lái)同時(shí)測量電位差和多層鎳的鍍層厚度, 該方法是這個(gè)應用領(lǐng)域的標準。 多層鎳鍍層的品質(zhì)控制需要能在電鍍完成后立刻檢查厚度和電位差的儀器。 COULOSCOPE CMS2 STEP 就是為這個(gè)目的而設計的,它操作簡(jiǎn)單,參比電極使用起來(lái)也不復雜,非常適合電鍍工廠(chǎng)苛刻環(huán)境下的這種應用。

        電鍍鎳層用作電解保護和提高機器表面屬性,如硬度等。特別是汽車(chē)工業(yè)中,電鍍鎳部件在防腐蝕方面要滿(mǎn)足很高的要求。單一鎳層無(wú)法滿(mǎn)足該要求。因此,目前正在開(kāi)發(fā)非常復雜的鍍層系統,其中包含兩層、三層甚至四層鍍鎳層,還有鉻或銅鍍層。

 


 

 


測量原理:

STEP Test 是(Simultaneous Thickness and Electrochemical Potential determination)(同時(shí)測量鍍層厚度和化學(xué)電位差)的簡(jiǎn)寫(xiě), 是已經(jīng)標準化很久的測量方法。它可以同時(shí)測量各鍍層厚度和多層鎳系統中兩層之間的電化學(xué)電位差。 厚度測量時(shí)用庫侖法來(lái)測量,電位差通過(guò)外面鍍一層 AgCl 的銀參比電極來(lái)測量。電壓曲線(xiàn)可以顯示在屏幕上,鍍層厚度和電位差可以在圖上讀出。

        為了獲得可以比較的穩定電位差測量結果,參比電極到工件的距離必須始終保持不變。 這個(gè)問(wèn)題通過(guò)特殊的測量槽得到解決。銀參比電極被設計成一個(gè)圓錐形的環(huán)狀電極,并作為測量槽底部的外殼與測量槽蓋連接。測量槽的設計保證了參比電極與工件之間的距離始終不變。銀參比電極被設計成一個(gè)圓錐形的環(huán)狀電極,并作為測量槽底部的外殼與測量槽蓋連接。測量槽的設計保證了參比電極與工件之間的距離始終不變。

產(chǎn)品相關(guān)關(guān)鍵字: 電解質(zhì)測厚儀 多功能電解測厚儀 COULOSCOPE CMS2
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